【論　　文】
ポリ塩化ビフェニル異性体の紫外線分解における反応速度式の一般化について
渡　辺　敦　雄*・田　嶋　直　樹**・迫　田　章　義***

【要　旨】　PCB製品を対象とする紫外線分解施設の反応容器のスケールアップを目指して，209種のPCB異性体の紫外線分解に関する脱塩素化反応速度定数を先行研究結果の解析により求めた。次に実験ごとに異なる見かけの反応速度定数はPCB分子への入射紫外線強度の0.85乗に比例することに注目し，実験間の反応速度定数補正式を提案した。さらに�@すべて塩素数が1個ずつ減じる逐次反応で反応次数はほぼ1，�A最終的には，モノクロロビフェニルからビフェニルになる，�B3-クロロビフェニル，4-クロロビフェニルが残留し中間生成物のように振舞う，などの脱塩素化分解反応の特徴に基づき，脱塩素化分解反応速度定数からビフェニル化反応スキームと反応速度予測式を推定した。最後にPCB製品による本研究実験結果と上記反応速度予測式との比較評価により脱塩素化反応速度定数の妥当性を確認した。

キーワード:ポリ塩化ビフェニル，異性体，紫外線分解，反応速度定数，反応速度式
廃棄物学会論文誌，Vol.16, No.6, pp.531-539, 2005
原稿受付 2005.2.15　　原稿受理 2005.9.2
* 沼津工業高等専門学校物質工学科
** （株）東芝，電力・社会システム社，PCB処理事業推進室
*** 東京大学生産技術研究所
連絡先:〒410-8501　静岡県沼津市大岡3600
沼津工業高等専門学校物質工学科　　渡辺　敦雄