Ｘ線分析討論会が東京に帰ってきます。主題は(1)新X線源による新たな分析の可能性、(2)埋もれた薄膜界面のX線分析、(3)X線検出器技術の新展開です。
■日 時：2016年10月26日(水)～28日(金)
■講演募集期間：2016年7月1日(金)～27日(水)
■参加登録(予約)期間：2016年7月1日(金)～30日(土)
■参加費(参加登録を行った場合)：一般4,500円、学生3,000円
■プログラム決定：2016年8月1日(月)
■予稿原稿受付期間：2016年8月1日(月)～9月5日(月)
■場 所：筑波大学東京キャンパス（〒112-0012 東京都文京区大塚3-29-1）
■主 催：(公社)日本分析化学会X線分析研究懇談会
■協 賛：(一社)廃棄物資源循環学会他
■問合先：(国研)物質・材料研究機構 高輝度光解析グループ(担当：桜井)
〒305-0047 茨城県つくば市千現1-2-1 E-mail: sakurai@yuhgiri.nims.go.jp
詳細については下記URLをご覧ください。
http://www.nims.go.jp/xray/xbun/x52/ [1]